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光伏板沉积设备厂家
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光伏板沉积设备厂家
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2023年中国光伏行业系列研究:光 伏设备行业研究
行业研究| 2023/03 光伏系列400-072-5588 6 名词解释 载流子:在物理学中,载流子指可以自由移动的带有电荷的物质微粒,如电子和离子。在半导体中,存 在两种载流子,电子以及电子流失导致共价键上留下的空位(空穴)均被视为载流子。
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拉普拉斯新能源科技股份有限公司
拉普拉斯新能源科技股份有限公司成立于2016年5月,是一家由多名海内外光伏及半导体设备行业顶级水平专家创立的高档装备与解决方案提供商,被工信部认定为国家等级专精确特新"小巨
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11.7亿元!微导纳米募资建设半导体薄膜沉积设备工厂
北极星太阳能光伏网获悉,5月30日,微导纳米发布《向不特定对象发行可转换公司债券的预案》的公告,拟向不特定对象发行可转债拟募集资金总额不超过人民币11.7亿元(含11.7亿元),扣除发行费用后,将全方位部投资于半导体薄膜沉积设备智能化工厂建设项目、研发实验室扩建项目,以及补充流动
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PVD涂层业务-弧光纳米科技(苏州)有限公司
公司成立于2012年,从国外进口全方位套镀膜涂层加工生产线,包括涂层设备,清洗线,前后处理设备及实验室检测设备。 从投产至今,公司的产品和服务现已赢得了良好的市场信誉,弧光纳米涂层已成为国内规模与技术领先的涂层加工中心,现已有多台国外进口涂层加工设备及等离子渗氮设备。
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2023年半导体薄膜沉积设备行业市场格局及国内外主要参与厂商
半导体薄膜沉积设备主要由国际巨头垄断,国产厂商积极布局。半导体薄膜沉积设备行业基本由 AMAT、TEL、Lam、ASM 等国际巨头垄断。 产品线涵盖薄膜沉积设备的全方位球知名半导体设备制造商包括应用材料( AMAT )、东京电子( TEL )、泛林半导体( Lam )、先晶半导体( ASM )、日本国际电气( KE )。
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我国半导体设备之化学气相沉积(CVD)设备及细分产品市场分析
化学气相沉积( CVD )技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。 在典型的 CVD 工艺过程中,把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。 通常,工艺过程中还会产生很多副产物,这些副产物会被气流带走离开腔室。
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TOPCON路线之争:晶科、钧达LPCVD和与通威、晶澳的PECVD谁主沉浮
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化学气相沉积设备
北方华创自主开发的卧式PECVD 已成功进入海外市场,为多家国际先进的技术光伏制造厂提供解决方案。而硅外延设备在感应加热高温控制技术、气流场、温度场模拟仿真技术等方面取得了重大的突破,达成了优秀的外延工艺结果,获得多家国内主流生产线批量采购。
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四川中衍高晶新能源科技有限公司
四川中衍高晶新能源科技有限公司是一家专注于太阳能发电产品的应用研发及推广的创新型企业,公司专注于新能源环保产业的应用及推广,为用户提供整套新能源应用解决方案,业务范围涵盖对新能源的技术研究、技术开发、技术咨询、技术转让服务;太阳能光伏发电产品及成套设备、风力发电
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LPCVD、PECVD、APCVD、ALD及MOCVD设备及市场规模
国内主要厂商为北方华创和盛美上海,中微公司目前正在研发中。 根据2020年市场公开信息,虽然北方华创属于国内LPCVD龙头,但国产替代率仅为2%左右。 *图片来源:集成电
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深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
捷佳伟创已为全方位球近300家光伏电池生产企业,近4000条电池生产线提供设备和服务,已成长为全方位球领先的太阳能电池整线交钥匙方案提供商。随着公司专业化和规模化水平的不断提高,国际化水平已大幅提升,公司产品远销海外十多个国家和地区。
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微导纳米:国内光伏ALD设备龙头,TOPCon和半导体领域有望放
微导纳米以 ALD 技术为核心,光伏设备快速量产出货,半导体设备加速验证。江苏微导纳米公司成立于 2015 年, 以 ALD 技术为核心,主营光伏和半导体领域的先进的技术微、纳米级薄膜沉积设备。2017 年,公司研制成功一代机 KF4000; 2017-2018 年,公司加速推广
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深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
全方位球布局. 捷佳伟创已为全方位球近300家光伏电池生产企业,近4000条电池生产线提供设备和服务,已成长为全方位球领先的太阳能电池整线交钥匙方案提供商。随着公司专业化和规模化水平的不断提高,国际化水平已大幅提升,
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解读:八大PECVD设备厂商及技术优势_薄膜
公司已开发出专用于 HJT 非晶硅薄膜沉积的 OCTOPUS 系列设备, 采用 Mirror 核心技术,可在无需破坏真空且无需翻转基板情况下完成基板双面的沉积,可降低工艺周期,提升产能。 此外,公司还采用 ACCT(抗交叉污
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光伏薄膜沉积设备:市场规模将破百亿,国产设备厂商开始发力
从光伏电池的应用情况来看,链式多腔PVD真空镀膜设备主要应用于HJT的第三道生产工序。通过磁控溅射技术或RPD(离子反应镀膜)技术,在非晶硅钝化异质结电池正背面沉积TCO透明金属氧化物导电膜,主要为75-80nm厚的ITO氧化铟锡膜,用于纵向收集载流子并向电极横向传输,同时减少入射光学反射。
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理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称"理想晶延")创立于2013年5月,是一家以化学气相沉积技术为核心,努力于泛半导体领域高档设备国产化的科技型企业。公司总部位于国家等级上海松江经济技术开发区,并在浙江省海宁市建设有全方位资子公司。
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微导纳米板块:ALD设备领头羊,国产替代和业绩长期向好 一、 ALD 设备龙头企业,光伏
一、 ALD 设备龙头企业,光伏、半导体业务共同成长 1.1 国内 ALD 设备 领航者,光伏、半导体、柔性电子全方位面布局 微导纳米 成立于 2015 年,总部位于无锡,2022 年 12 月在科创板上市。公司专注于先进的技术微米级、纳米级薄膜沉积设备的研 发、生产与应用,核心产品为 ALD 设备,主要应用于...
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